پاورپوینت آماده بررسی رسوب شيميايي فاز بخار(CVD) و توليد نانولوله‌هاي کربني به روش CVD

روش رسوب شيميايي فاز بخار مستلزم رسوبگذاري مادهي شامل نانو ذرات از فاز گازي است. ماده آنقدر گرم ميشود تا به صورت گاز درآيد و سپس به صورت يک ماده جامد بر روي سطحپاورپوینت آماده بررسی رسوب شيميايي فاز بخار(CVD) و توليد نانولوله‌هاي کربني به روش CVD|30013431|uvq|پاورپوینت آماده بررسی رسوب شيميايي فاز بخار(CVD) و توليد نانولوله‌هاي کربني به روش CVD
یکی از برترین فایل های قابل دانلود با عنوان پاورپوینت آماده بررسی رسوب شيميايي فاز بخار(CVD) و توليد نانولوله‌هاي کربني به روش CVDآماده دریافت می باشد .

روش رسوب‌ شيميايي فاز بخار مستلزم رسوب‌گذاري ماده‌ي شامل نانو ذرات از فاز گازي است. ماده آنقدر گرم مي‌شود تا به صورت گاز درآيد و سپس به صورت يک ماده جامد بر روي سطح، معمولاً تحت خلأ رسوب‌گذاري مي‌گردد. ممکن است رسوب‌گذاري مستقيم يا رسوب‌گذاري از طريق واکنش شيميايي، محصول تازه‌اي را به وجود آورد که با ماده‌ي تبخير شده تفاوت زيادي داشته باشد. اين فرآيند به آساني نانوپودرهايي از اکسيدها و کاربيدهاي فلزات را پديد مي‌آورد ، مشروط بر اينکه بخارات کربن يا اکسيژن همراه با فلز در محيط وجود داشته باشد.





رسوب‌گذاري شيميايي فاز بخار را، همچنين مي‌توان براي رشد سطوح مورد استفاده قرار داد. جسمي که قرار است پوشش داده شود در مجاورت با بخار شيميايي قرار داده مي‌شود. نخستين لايه از مولکول‌ها يا اتم‌ها ممکن است با سطح واکنش دهد يا واکنش ندهد. در هر صورت، اين گونه‌هاي در حال رسوب‌گذاري که براي اولين بار تشکيل شده‌اند، به عنوان بستري که ماده بر روي آن مي‌تواند رشد کند، عمل مي‌کنند. ساختارهاي پديد آمده از اين مواد، اغلب در يک رديف در کنار هم به خط مي‌شوند، زيرا مسيري که اتم‌ها و مولکول‌ها در طي آن رسوب‌گذاري گرديده‌اند، تحت تأثير مولکول‌ها يا اتم‌هاي همسايه‌ي آن‌ها قرار مي‌گيرد. اگر بستر يا سطح پايه‌ي ميزبان که رسوب‌گذاري بر روي آن انجام شده است، فوق‌العاده مسطح باشد، رشد سطحي به بهترين وجه انجام مي‌شود. در حين رسوب‌گذاري، مکاني براي بلوري شدن در امتداد محور رسوب‌گذاري ممکن است تشکيل شود، به طوري که ساختار منظم شده و به خط شده به شکل عمودي رشد مي‌کند.